오늘은 MOSFET의 설계에서 실제 반도체로 찍어졌을 때 고려해야하는 효과들에 대해 알아보겠습니다. 이러한 효과들은 회로 시뮬레이션 결과로는 나오지 않는 것들이기 때문에 꼭 알아내서 설계를 해야 미연에 문제들을 방지할 수 있습니다. 이러한 효과들을 무시하고 설계하고 레이아웃을 그리는 것은 지난 우리 선배들의 실수를 무시하고 똑같이 반복하겠다는(?) 매우 안 좋은 생각이지요 먼저 Well proximity effect 입니다. 실제로는 어떤 공정을 이용하는 지에 따라 well 과 oxide metal 을 만드는 순서가 다릅니다. Etch 와 Photo 의 순서는 실제로 어느 파운드리 공정을 이용하느냐에 따라 그 순서가 다르죠. 하지만 일반적으로 nwell 을 만들기 위해서는 nwell 을 만들기 위한 곳을..